반도체미세공정2 반도체 EUV란? 원리와 공정 과정 쉽게 이해하기 반도체 EUV란? 원리와 공정 과정 쉽게 이해하기 반도체 제조에서 필수적인 EUV(Extreme Ultraviolet) 노광 공정의 원리와 역할을 알아보겠습니다. 1. 반도체 EUV란? EUV(Extreme Ultraviolet) 리소그래피는 반도체 제조 공정에서 **파장이 13.5nm인 극자외선(EUV)을 이용해 초미세 회로를 새기는 기술**입니다. 기존의 DUV(Deep Ultraviolet) 리소그래피보다 더 짧은 파장을 사용하여 **5nm 이하의 초미세 반도체 공정**이 가능해졌습니다. 🔹 EUV 공정의 주요 특징 기존 공정보다 훨씬 미세한.. 2025. 3. 8. 반도체 제조의 핵심 – 클린룸과 공정별 환경 관리 기술 반도체 제조의 핵심 – 클린룸과 공정별 환경 관리 기술 반도체 제조는 극도로 정밀한 공정이 요구되며, 클린룸과 환경 관리 기술이 필수적입니다. 이번 글에서는 반도체 제조를 위한 클린룸과 공정별 환경 관리 기술을 살펴보겠습니다. 1. 반도체 제조 공정에서 클린룸이 중요한 이유 반도체는 **나노미터(㎚) 단위의 미세 공정**을 거쳐 제조되며, 공정 중 **공기 중의 미세한 먼지 입자**도 제품의 성능과 수율(생산품 중 정상 제품의 비율)에 영향을 미칠 수 있습니다. 따라서 반도체 공정은 **특수한 환경에서 정밀하게 관리되는 클린룸(Clean Room)**에서 진행됩니다. 2. 클린룸이란? .. 2025. 2. 15. 이전 1 다음